伴隨集成電路的發(fā)展，隨之而來的是集成電路光刻技術(shù)的發(fā)展，光刻技術(shù)經(jīng)歷了從最初的接觸式光掩模技術(shù)起步，到今天的世界最先進(jìn)光刻技術(shù)已經(jīng)跨越到了7nm。彈指間，技術(shù)變革的腳步始終不變，集成電路也進(jìn)入了掩模新時(shí)代。下面光博會(huì)就帶大家一起來看看。

掩模產(chǎn)業(yè)發(fā)展增速顯著

我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展面臨著前所未有的新機(jī)遇。一方面，我國(guó)逐步成為世界上集成電路最大的消費(fèi)國(guó)，另一方面未來幾年國(guó)內(nèi)和國(guó)際知名企業(yè)紛紛登陸中國(guó)建設(shè)新的晶圓廠。

以上產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)的積極變化，對(duì)掩模行業(yè)的配套發(fā)展可以說是重大歷史機(jī)遇，我們要在清醒認(rèn)識(shí)自我的同時(shí)，抓住機(jī)遇，群策群力，全方位、大視野、大格局的有效開展項(xiàng)目論證和建設(shè)，擴(kuò)大國(guó)際合作的深度與廣度，多渠道、全方位開展合作，實(shí)現(xiàn)掩模行業(yè)飛躍發(fā)展。

創(chuàng)新是產(chǎn)業(yè)發(fā)展的靈魂，是不竭的動(dòng)力。掩模產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展應(yīng)不僅停留在技術(shù)、管理上，更應(yīng)該把制度、體制創(chuàng)新放在突出位置，激發(fā)人才的主觀創(chuàng)造性，最終打造出企業(yè)長(zhǎng)期發(fā)展的核心競(jìng)爭(zhēng)力。

技術(shù)變革助助推社會(huì)進(jìn)步

光刻分辨率取決于照明系統(tǒng)的部分相干性、掩模圖形空間頻率和襯比及成象系統(tǒng)的數(shù)值孔徑等。相移掩模技術(shù)的應(yīng)用有可能用傳統(tǒng)的光刻技術(shù)和i線光刻機(jī)在最佳照明下刻劃出尺寸為傳統(tǒng)方法之半的圖形，而且具有更大的焦深和曝光量范圍。相移掩模方法有可能克服線/間隔圖形傳統(tǒng)光刻方法的局限性。

隨著移相掩模技術(shù)的發(fā)展，涌現(xiàn)出眾多的種類， 大體上可分為交替式移相掩膜技術(shù)、衰減式移相掩模技術(shù);邊緣增強(qiáng)型相移掩模， 包括亞分辨率相移掩模和自對(duì)準(zhǔn)相移掩模;無鉻全透明移相掩模及復(fù)合移相方式( 交替移相+ 全透明移相+ 衰減移相+ 二元鉻掩模) 幾類，尤其以交替型和全透明移相掩模對(duì)分辨率改善最顯著， 為實(shí)現(xiàn)亞波長(zhǎng)光刻創(chuàng)造了有利條件。

全透明移相掩模的特點(diǎn)是利用大于某寬度的透明移相器圖形邊緣光相位突然發(fā)生180度變化， 在移相器邊緣兩側(cè)衍射場(chǎng)的干涉效應(yīng)產(chǎn)生一個(gè)形如“刀刃”光強(qiáng)分布， 并在移相器所有邊界線上形成光強(qiáng)為零的暗區(qū)， 具有微細(xì)線條一分為二的分裂效果， 使成像分辨率提高近1 倍。

光學(xué)曝光技術(shù)的潛力， 無論從理論還是實(shí)踐上看都令人驚嘆， 在實(shí)用化方面取得最引人注目進(jìn)展的要數(shù)移相掩模技術(shù)、光學(xué)鄰近效應(yīng)校正技術(shù)和離軸照明技術(shù)， 尤其浸沒透鏡曝光技術(shù)上的突破和兩次曝光技術(shù)的應(yīng)用， 為分辨率增強(qiáng)技術(shù)的應(yīng)用更創(chuàng)造了有利條件。

在后光學(xué)光刻的技術(shù)中，其最主要且最困難的技術(shù)就是掩模制造技術(shù)，其中1：1的光刻非常困難，是妨礙技術(shù)發(fā)展的難題之一。所以說，我們認(rèn)為掩模開發(fā)是對(duì)于其應(yīng)用于工業(yè)發(fā)展的重要環(huán)節(jié)，也是決定成敗的關(guān)鍵。

光博會(huì)始終認(rèn)為掌握核心技術(shù)最為重要

1、是否掌握了核心技術(shù)要看是否從原理上吃透技術(shù)。任何技術(shù)都有其相應(yīng)的基礎(chǔ)理論支撐，要掌握核心技術(shù)，必須深刻理解其技術(shù)原理，不但知其然還要知其所以然。

2、是否掌握了核心技術(shù)還要看是否具備了基于核心技術(shù)的創(chuàng)新拓展能力。如果把從0到1看作是初步具備了核心技術(shù)，但是還不能認(rèn)為已經(jīng)掌握了核心。

3、否已形成完整的技術(shù)體系，并實(shí)施了有效管理。核心技術(shù)不是單個(gè)分散的技術(shù)，而是一個(gè)技術(shù)體系(當(dāng)然，這個(gè)技術(shù)體系里面不一定全都是創(chuàng)新的技術(shù)，大部分還是原有的技術(shù))，不僅包括技術(shù)原理、方法和流程，還包括產(chǎn)品研發(fā)的所有要素，如：人才隊(duì)伍、工藝設(shè)備、基礎(chǔ)配套條件等

4、對(duì)核心技術(shù)的運(yùn)用是否讓企業(yè)在行業(yè)內(nèi)占據(jù)了技術(shù)制高點(diǎn)，是否獲得了競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手在短時(shí)間內(nèi)無法超越的技術(shù)優(yōu)勢(shì)。

光博會(huì)上述四點(diǎn)始終最為重要，這體現(xiàn)了核心技術(shù)的關(guān)鍵性、獨(dú)特性和先進(jìn)性的特性。

以上就是第十一屆光電子·中國(guó)博覽會(huì)為大家?guī)淼挠嘘P(guān)集成電路的相關(guān)資訊，想要了解更多歡迎來到我們的光電集成電路主題展，2019年8月5日-8月7日，等你來參觀!

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來源：集成電路網(wǎng)